Mascarilla con alto contenido de centella asiática para calmar las irritaciones producidas por el acné y las quemaduras, y mejorar la barrera protectora de la piel.
- La base de la mascarilla es agua de hoja de centella asiática que compone el 45% de los ingredientes.
- La centella suaviza la piel y ayuda a agilizar el proceso de regeneración combatiendo cicatrices por acné y rojeces.
- Hidrata tu piel y mantén la barrera protectora de tu piel gracias al ácido hialurónico.
- Es apta para todo tipo de piel, incluso piel sensible.
Cantidad: 23 gr.
| Modo de Uso: Luego de limpiar y tonificar la piel, aplicar la mascarilla extendiendola por todo el rostro. Dejar actuar de 10 a 20 minutos. No enjuagar, continuar con la hidratante de su elección. |
Ingredientes: Centella Asiatica Leaf Water, Aqua (Water), Glycerin, Pentylene Glycol, Butylene Glycol, Microcrystalline Cellulose, Centella Asiatica Extract, Sodium Gluconate, Sodium Hyaluronate, Propanediol, Dipotassium Glycyrrhizate, Asiatic Acid, Madecassic Acid, Asiaticoside, Madecassoside, Portulaca Oleracea Extract, Xanthan Gum, Cellulose Gum, Caprylic/Capric Triglyceride, Hydrogenated phosphatidylcholine, 1,2-Hexanediol, Cetearyl Alcohol, Sucrose Stearate
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